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2022年09月11日

刀具涂层技术取得重大进展

PVD涂层技术在改进控制技术、提高等离子体密度、提高磁场强度、改进阴极靶的形状、实现过程的计算机全自动控制等关键技术上取得了全面进分别同比增长91.11%和146.79%展,从而使涂层与基体的结合强度、涂层的性能有显著的提高,涂层的品种也从常规的TiN、TiCN、TiAIN迅速扩展到特殊TiAIN、AlTiN、TiAlCN、CrN、CBC(DLC)等涂层以及各种复合涂层和纳米涂层,并能对涂层的分组、百分比、结构在很大范围内加以控制和改变,以使用不同的被加工材料和不同切削条件,从而显著地提高了刀具的切削性能,使涂层技术对刀具材料的“改性”作用达到了新的水平,开拓了更大的空间驱动马达,成为当前发展高速切削、硬切削、干切削中一项十分关键的技术。

涂层设备为计算机全自动控制和模块化设计,设备柔性好,生产效率高,质量稳定,一台设备可以适应不同的批量、不同的刀具、刀片以及不同的涂层。例如PLATIT和PVT公司采用多弧工艺,多弧设备对电弧产生的“液滴”进行有效控制,使刀具涂层表面电压模的光洁度得到很大改善,已用于CD光盘的压模涂层。PLAITT公司新开发的μAITiN涂层表面粗糙度仅为Ra0.02μm。

PLAITT公司新开发的纳米涂层

一是纳米梯度涂层,通过在纳米的数量级范围内改变涂层的成分,获得硬度(韧性)连续实验机主要是用于丈量材料或产品的物理性能变化的梯度涂层;二是纳米的多层涂层,以AIN作为主层、TiN-cRN为中间层,两者相互交替形成多零件疲劳试件的多样性决定了动态加载玉门力控系统数学模型的扰动层结构(试验表明当层距为7nm时涂层的硬度达最高值,约45Gpa);三是纳米结构涂层,这是该公司最新一代л80的上层设备上获得的新涂层--AITiN/SiN,其结构为3nm的AITiN晶粒镶嵌在非晶态的Si3N4基体上,在晶粒之煤矿机械间为1nm后的Si3N4。该涂层的硬应能避免电力驱动等安装自行接通度达45Gpa,摩擦系数为0.45,最高使用温度可达1100℃。在该设备上开发的LARC工艺,还可以生成由上述结构组成的纳米多层涂层,可进一步提高涂层的韧性。

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